CAS号：

12006-79-0

3D弹球模型：

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分子式：

BCrH2

分子量：

64.82300

中文名称：

铬硼化物

英文名称：

boranylidynechromium

中文别名：

铬硼化物;
硼化铬(III)

英文别名：

boranylidynechromium;
chromiumylidyneborane;
Chromium monoboride;
Chromium boride (CrB);
EINECS 234-487-8

精确分子量/精确质量：

64.96550

极性分子表面积/PSA：

0.00000

油水分配系数/LogP：

LogP值指的是某物质在正辛醇/水两相体系中的分配系数的对数值，反映了物质在油水两相中的分配情况。其中、LogP值越大，说明该物质越亲油；反之，LogP值越小，则说明该物质越亲水。

EINECS：

234-487-8

InChI：

The Key: NUEWEVRJMWXXFB-UHFFFAOYSA-N

制备方法

1.氯化铬与硼(或氧化硼)的混合物用金属镁于650℃还原制得。2.铬与适量硼粉在真空或惰性气氛中于1600℃下加热或在1150℃烧结48～72h,有硼化铬CrB、Cr2B、Cr3B2、Cr3B4、CrB2形成，于高温下热压后，可形成CrB2、CrB或Cr3B4。

合成制备方法

1.氯化铬与硼(或氧化硼)的混合物用金属镁于650℃还原制得。

2.铬与适量硼粉在真空或惰性气氛中于1600℃下加热或在1150℃烧结48～72h,有硼化铬CrB、Cr2B、Cr3B2、Cr3B4、CrB2形成，于高温下热压后，可形成CrB2、CrB或Cr3B4。

 

用途简介

用作耐磨、抗高温氧化涂层和核反应堆中的中子吸收涂层。用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。硼化铬与氧化铝在微氧化气氛中烧结或热压制品，有高温耐磨的实用价值。用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。

用途

1.用作耐磨、抗高温氧化涂层和核反应堆中的中子吸收涂层。用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。硼化铬与氧化铝在微氧化气氛中烧结或热压制品，有高温耐磨的实用价值。

2.用于陶瓷，熔喷在金属及陶瓷表面，形成耐磨、耐蚀薄膜。用于喷制半导体膜。