CAS号：

13709-61-0

3D弹球模型：

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分子式：

F4Xe

分子量：

207.28700

中文名称：

四氟化氙

英文名称：

tetrafluoroxenon

中文别名：

四氟化氙

英文别名：

tetrafluoroxenon;
Xenon tetrafluoride;
xenon(IV)-fluoride;
EINECS 237-260-1;
XeF4;
Xenon fluoride (XeF4);
xenon(4+) tetrafluoride

精确分子量/精确质量：

207.89800

极性分子表面积/PSA：

0.00000

油水分配系数/LogP：

LogP值指的是某物质在正辛醇/水两相体系中的分配系数的对数值，反映了物质在油水两相中的分配情况。其中、LogP值越大，说明该物质越亲油；反之，LogP值越小，则说明该物质越亲水。

EINECS：

237-251-2

InChI：

The Key: RPSSQXXJRBEGEE-UHFFFAOYSA-N

合成制备方法

制备XeF₄的常用方法是在镍反应器中加热氙和氟的混合气体，并使原料气中F₂/Xe比为5∶1，在400℃的温度下反应1h，反应完成后使反应器迅速冷却，但产物中混有一些XeF₆和XeF₂。

制法 以氙和二氟化二氧在低温低压下反应制备四氟化氙。

反应中所用不锈钢容器和真空管线预先用ClF₃和XeF₆进行钝化处理，然后抽真空一整天。O₂F₂直接由F₂和O₂合成，此光化学合成反应在装有蓝宝石窗的铜反应器中进行，混合气体中F₂和O₂的配比为1∶1。

在-196℃的温度下，将约0.4g氙和大过量的(10倍或更多)O₂F₂冷凝在一容积为35mL的圆柱形不锈钢反应器中，接着将反应器置于-155℃的冷浴(CF₂Cl₂/液氮)中，并慢慢升温，使温度在2～4h内达到-120℃。随后将反应器置于装有干冰的杜瓦瓶中，并控制温度为-78℃，保持在此温度下过夜，在此期间过剩的O₂F₂分解为O₂和F₂，挥发性的物质通过一冷却至-196℃的冷阱，其中O₂和F₂被除去，此冷阱中也会有一些白色的固体物质。将-196℃的杜瓦瓶换成-78℃的杜瓦瓶，继续抽真空1h，产物中混有的CF₄，COF₂和SiF₄等杂质即被除去。剩余的固体物质为XeF₄和XeF₂的混合物。按照上面所述的同样方法，再用O₂F₂与XeF₄和XeF₂的混合物反应，最后氙几乎是定量地转化为XeF₄。

用途

四氟化氙是稳定的化合物，可长期储存在镍容器中，是一种很强的氧化剂和氟化剂，与水剧烈反应生成Xe,O₂,HF和XeO₃。

稳定性相关：

 

其它信息：

1.性状：四氟化氙的分子构型为平面四边形，无色单斜晶系结晶。

2.密度（g/cm³）：4.04。

3.熔点（℃）：117.1。

危险类别码：

8-25-26-34

安全标志：

S17:远离可燃物质。
S26:万一接触眼睛，立即使用大量清水冲洗并送医诊治。
S28:接触皮肤之后，立即使用大量皂液洗涤。
S45:出现意外或者感到不适，立刻到医生那里寻求帮助（最好带去产品容器标签）。
:

危险标志：

O

计算化学数据

1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:4

4.可旋转化学键数量:0

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积0

7.重原子数量:5

8.表面电荷:0

9.复杂度:19.1

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:1

• 

  7783-61-1

  四氟化硅

• 

  13709-36-9

  二氟代氙

• 

  13776-58-4

  xenone trioxide

• 

  7783-81-5

  六氟化铀

• 

  10060-10-3

  氟化铈(IV)