CAS号：

13759-10-9

3D弹球模型：

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分子式：

S2Si

分子量：

92.21550

中文名称：

硫化硅(IV)

英文名称：

bis(sulfanylidene)silane

中文别名：

硫化硅(IV);
硫化硅

英文别名：

bis(sulfanylidene)silane;
dithioxosilane;
Silicon disulphide;
Silicone disulfide;
$l^{6}-silanedithione;
Silicondisulfide

精确分子量/精确质量：

91.92110

极性分子表面积/PSA：

64.18000

油水分配系数/LogP：

LogP值指的是某物质在正辛醇/水两相体系中的分配系数的对数值，反映了物质在油水两相中的分配情况。其中、LogP值越大，说明该物质越亲油；反之，LogP值越小，则说明该物质越亲水。

贝尔斯坦号/MDL：

MFCD00049532

EINECS：

237-344-8

InChI：

The Key: KHDSWONFYIAAPE-UHFFFAOYSA-N

制备方法

1.将铝粉及过量的硫磺放入坩埚中，灼烧，制得硫化铝。将硫化铝粉碎，与稍过量的硅砂混合。将混合物放入瓦盘中，再将瓦盘放入石英管中，一边向石英管中通入少量干燥氮气，一边加热。反应从1100℃开始，在1200～1300℃时，升华的SiS2附着于管子的低温区。提纯时，在氮气或真空中再升华。将硅及硫磺的混合物在5×103MPa、700℃下进行加热，就可制得正方晶系SiS2。2.加热分解烃硫基硅，在250～300℃生成二硫化硅及硫醚。若加入硫磺，则在更低温度下分解。把96g硫磺和39g Si(SC2H5)4混合在一起，在200℃下加热10min，则生成二硫化硅和乙基硫烷(C2H5-S2-C2H5、C2H5-S3-C2H5)。后者溶于苯后，在防止混入湿气的条件下过滤。

合成制备方法

1.将铝粉及过量的硫磺放入坩埚中，灼烧，制得硫化铝。将硫化铝粉碎，与稍过量的硅砂混合。将混合物放入瓦盘中，再将瓦盘放入石英管中，一边向石英管中通入少量干燥氮气，一边加热。反应从1100℃开始，在1200～1300℃时，升华的SiS2附着于管子的低温区。提纯时，在氮气或真空中再升华。将硅及硫磺的混合物在5×103MPa、700℃下进行加热，就可制得正方晶系SiS2。

2.加热分解烃硫基硅，在250～300℃生成二硫化硅及硫醚。若加入硫磺，则在更低温度下分解。把96g硫磺和39g Si(SC2H5)4混合在一起，在200℃下加热10min，则生成二硫化硅和乙基硫烷(C2H5-S2-C2H5、C2H5-S3-C2H5)。后者溶于苯后，在防止混入湿气的条件下过滤。

用途简介

外观与性状：

白色,灰色,或棕色针状物，臭鸡蛋气味

密度：

2,02 g/cm3

熔点：

1090°C subl.

沸点：

1090°C

存储条件/存储方法：

常温密闭，阴凉通风干燥惰性气体下

稳定性相关：

常温常压下稳定

避免的物料 水分/潮湿  酸 氧化物。遇湿气就分解成SiO2及H2S。在空气中加热就燃烧。

其它信息：

1.       性状：白色纤维状斜方或正方晶系结晶。

2.       密度（g/mL,25/4℃）：2.23

3.       相对蒸汽密度（g/mL,空气=1）：未确定

4.       熔点（ºC）：1090

5.       沸点（ºC,常压）：1130

6.       沸点（ºC,5.2kPa）：未确定

7.       折射率：未确定

8.       闪点（ºC）：未确定

9.       比旋光度（º）：未确定

10.    自燃点或引燃温度（ºC）：不适用的

11.    蒸气压（kPa,25ºC）：未确定

12.    饱和蒸气压（kPa,60ºC）：未确定

13.    燃烧热（KJ/mol）：未确定

14.    临界温度（ºC）：未确定

15.    临界压力（KPa）：未确定

16.    油水（辛醇/水）分配系数的对数值：未确定

17.    爆炸上限（%,V/V）：未确定

18.    爆炸下限（%,V/V）：未确定

19.    溶解性：未确定

包装等级：

II

风险类别：

4.3

分子结构数据

1、摩尔折射率：无可用的

2、摩尔体积（cm³/mol）：无可用的

3、等张比容（90.2K）：无可用的

4、表面张力（dyne/cm）：无可用的

5、介电常数：无可用的

6、极化率（10^-24cm³）：无可用的

7、单一同位素质量：91.921066 Da

8、标称质量：92 Da

9、平均质量：92.2155 Da

计算化学数据

1.疏水参数计算参考值（XlogP）:无

2.氢键供体数量:0

3.氢键受体数量:2

4.可旋转化学键数量:0

5.互变异构体数量:无

6.拓扑分子极性表面积64.2

7.重原子数量:3

8.表面电荷:0

9.复杂度:18.3

10.同位素原子数量:0

11.确定原子立构中心数量:0

12.不确定原子立构中心数量:0

13.确定化学键立构中心数量:0

14.不确定化学键立构中心数量:0

15.共价键单元数量:1

• 

  463-58-1

  羰基硫

• 

  7440-21-3

  单质硅

• 

  12504-41-5

  silicon monosulfide